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電子級三甲基氯硅烷工藝裝置

描述:電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品,裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動(dòng)化程度高,數據精確度及重復性好,安全可靠 并能長(cháng)周期穩定運行

  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-06-21
  • 訪(fǎng)問(wèn)量:981
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標題:電子級三甲基氯硅烷工藝裝置

產(chǎn)品概述

電子級三甲基氯硅烷工藝裝置

流程簡(jiǎn)述

溶劑將固相溶解后與計量好的原料一通入反應釜反應,反應生成的輕組分經(jīng)冷卻和二次冷凝收集于接收罐,含渣重相用氣體壓液的方式通入渣漿釜進(jìn)行反應,渣漿釜在反應前加入要求量的堿液。整個(gè)反應液相流經(jīng)采用Φ3/4"管路,氣相采用Φ1/2"管路,具體詳見(jiàn) PID圖。反應“忌氧",反應前系統先抽真空,然后 N2 置換。

工藝流程基本設計

1、反應釜均采用夾套保溫,反應釜攪拌槳槳葉可手動(dòng)拆卸更換。

2、其余部分設計

1) 所有罐的安裝位置離地面有一定的高度,方便操作人員加料放料或排空;

2) 不同物料閥門(mén)及管道配備不同顏色的標簽,一目了然,方便區分和操作;

3) 設備布局合理規范整齊,符合工藝流程走向的同時(shí),方便操作和維護;

4) 所有管道安裝整齊,位置合理,最大限度的減少積液殘留;

5) 設置低點(diǎn)放空,保證反應結束后裝置內無(wú)物料殘留;

6) 所有需要操作的設備和儀器都設計在操作人員方便的高度和范圍以?xún)?;所有壓力表都在操作人員可視的高度和范圍以?xún)龋?/span>

7) 所有工藝部分的器件固定均采用可拆卸的,不采用焊接在框架上的方式,方便裝置的未來(lái)升級擴充;

8) 裝置的精密部件配置相應的保護措施,如反應器配備指針壓力表及壓力傳感器,氣體質(zhì)量流量計前配備過(guò)濾器等保護措施;

9) 裝置采用鋁型材,結構穩固,組合簡(jiǎn)單,便于方便移動(dòng);

10)裝置整體工藝部分按照用戶(hù)空間尺寸設計,置于中試車(chē)間,控制系統置于旁邊,便于操作。

電子級三甲基氯硅烷工藝裝置


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